Questões de Concursos Públicos - COSEAC - 2021 - UFF - Técnico de Laboratório - Microscopia Eletrônica

A Coluna óptico eletrônica, que produz um feixe de elétrons de baixa intensidade.

B Câmara da amostra, compartimento onde é inserida a amostra e que contém o filamento de tungstênio.

C Detector de elétrons, que pode ser um cintilador polarizado e um fotomultiplicador.

D Canhão eletrônico, composto por um catodo e um anodo.

E Sistema de objetivas, para atingir o vácuo apropriado para as análises na câmara do microscópio.

A Brilho

B Durabilidade

C Densidade de corrente

D Filamento cilíndrico 

E Estabilidade da fonte 

A Técnica ideal para material metálico muito denso, que permite lixamento e polimento. 

B Uma vantagem da técnica é que a estrutura química do material permanece inalterada.

C É possível criar filmes uniformes de material multifásico.

D A principal desvantagem da técnica é a deformação das amostras.

E Pode-se utilizar resina epóxi para amostras com muitos poros interconectados, que não podem se tornar mais finas mecanicamente.

A O abrasivo mais comumente utilizado para polímeros é a alumina na forma de suspensão aquosa.

B Outros abrasivos usados são a pasta de diamante e suspensões de óxido de cromo.

C O abrasivo na forma de suspensão aquosa deve ser continuamente alimentado sobre o pano de polimento. 

D Após cada troca de granulação no polimento, é recomendado o banho ultrassónico para limpeza da amostra e troca do pano.

E Para eliminar os efeitos de trincas ou fissuras, as amostras podem ser desbastadas com cortes em disco abrasivos, limitado a um corte por amostra.

A espessura adequada da amostra para melhor velocidade de fixação. 

B substância crioprotetora cobrindo apenas a base da amostra.

C manter o material em temperatura de congelamento constante, pois ao descongelar a fixação é revertida.

D uso de substâncias crioprotetoras como a sacarose.

E transportador e disco de amostra de tamanho correto.

A não é utilizada substância crioprotetora.

B não é necessária a etapa de desidratação em série com acetona.

C é realizada fixação inicial com glutaraldeído e paraformaldeído.

D deve-se usar solução de tetróxido de ósmio a 10%.

E ocorre substituição da água vitrificada, contida na amostra, por glicerol (solução de substituição).

A Tensão de aceleração dos elétrons. 

B Corrente da sonda.

C Distância entre a amostra e a lente objetiva. 

D Diâmetro do feixe.

E Tamanho da bomba de vácuo. 

A Lente condensadora, que focaliza o feixe de elétrons na amostra.

B Lente objetiva, que foca o feixe para a próxima lente.

C Lentes projetoras, que aumentam o tamanho da imagem da amostra.

D Lente detectora, que participa da formação primária do feixe.

E Lentes projetoras, que expandem o feixe sobre o dispositivo de imagem.

A Amostra de grande espessura.

B Assimetria das bobinas por problemas de usinagem.

C Não homogeneidade do material usado na lente.

D Sujeira nas aberturas não circulares.

E Distribuição não-homogênea de linhas de campo.